Rusko sa pochválilo informáciou, že vyrobilo svoj prvý fotolitografický nástroj, ktorý dokáže vyrobiť čipy s technológiou 350 nanometrov (nm). Má to však háčik. Táto technológia je zhruba 30 rokov pozadu za západným polovodičovým priemyslom, kde firmy dokážu vyrobiť mnohonásobne menšie čipy s technológiou iba 3 nm.
„Zostavili sme prvý domáci litografický skener. Teraz sa testuje ako súčasť technologickej linky v Zelenograde,“ pochválil sa koncom mája námestník ruského ministra priemyslu a obchodu Vasilij Špak agentúre TASS.
Pre Rusko ide určite o veľký technologický míľnik, ktorý pomôže vo výrobe polovodičov, ktorých nie je v krajine dostatok. Na svetové pomery ide však o veľmi zastaranú technológiu, ktorá bola vynájdená už pred 30 rokmi.
Americká spoločnosť Intel vyrobila procesory Pentium MMX, Pentium Pro a počiatočné procesory Pentium II podporované technológiou 350 nm už v rokoch 1995 a 1997. Navyše nebola sama. Aj iný americký výrobca AMD použil tento čip už v roku 1997 pre svoj procesor K6, upozornil server Tom’s Hardware.
Moderné stroje na výrobu čipov európskej firmy ASML sú navrhnuté tak, že dokážu vyrábať 3 nm polovodiče. Okrem menšej veľkosti sú hlavne oveľa komplexnejšie ako 350 nm čipy. Napríklad počet tranzistorov kľúčový pre celkový výpočtový výkon dosahuje niekoľko miliárd, nie miliónov. Čipy sú tiež úspornejšie na spotrebu energie.
Napriek tomu sa uplatnenie pre väčších polovodičov, ktoré teraz bude Rusko schopné vyrábať, nájde. „Čipy o veľkosti 350 nanometrov, aj keď sú považované za čipy veľkých rozmerov, sa stále používajú v mnohých priemyselných odvetviach, vrátane automobilového priemyslu, energetiky a telekomunikácií,“ uviedol TASS.
Server Tom’s Hardware podotkol, že tieto čipy môžu byť využité aj na vojenské vybavenie, a to najmä tam, kde nie je moderná technológia a špičkový výkon nutnosťou. Vďaka svojej robustnosti sú čipy dobre využiteľné pri rôznych starších zbraňových systémoch či podporných systémoch ako sú komunikačné zariadenia, staršie radarové systémy alebo logistické zariadenia.
Ruská vláda vlani oznámila dlhodobé ciele v oblasti polovodičového sektora. Do konca tohto roku chce prísť s technológiou na výrobu 90 nm čipov, do roku 2030 chce vyrábať 14 nm čipy.
